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霍尼韦尔轨迹球 MP-ICTB01-100 51199470-101

WOODWARD 5453-203  51199470-101

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基于以上理解,便可以得出MC与PLC具有以下几点区别:

(1)PLC抗干扰性能为MCgao

(2)PLC比MC编程简单

(3)PLC设计调试周期短

(4)PLC的I/0响应速度慢,有较大的滞后现象(MS),而MC的响应速度快(US)。

(5)PLC易于操作,人员培训时间短;而MC则较难人员培训时间长;

(6)PLC易于维修,MC则较困难

随着PLC技术的发展,其功能越来越强;同时MC也逐渐提gao和改进两者之间将相互渗透,使PLC与MC的差距越来越小,但在今后很长yi段时间内,两者将继续共存。在yi个控制系统中,PLC将集中于功能于功能控制上,而MC将集中于信息处理上。

来自空间的辐射干干扰

  空间的辐射电磁场(EMI)主要是由电力网络、电气设备的暂态过程、雷电、无线电广播、电视、雷达、gao频感应加热设备等产生的,通常称为辐射干扰,其分布极为复杂。若PLC系统置于所射频场内,就回收到辐射干扰,其影响主要通过两条路径:yi是直接对PLC内部的辐射,由电路感应产生干扰;而是对PLC通信内网络的辐射,由通信线路的感应引入干扰。辐射干扰与现场设备布置及设备所产生的电磁场大小,特别是频率有关,yi般通过设置屏蔽电缆和PLC局部屏蔽及gao压泄放元件进行保护。

来自系统外引线的干扰

  主要通过电源和信号线引入,通常称为传导干扰。这种干扰在我guo工业现场较严重。

  a来自电源的干扰

  PLC系统的zheng常供电电源均由电网供电。由于电网覆盖范围广,它将受到所有空间电磁干扰而在线路上感应电压和电路。尤其是电网内部的变化,入开关操作浪涌、大型电力设备起停、交直流传动装置引起的谐波、电网短路暂态冲击等,都通过输电线路传到电源原边。PLC电源通常采用隔离电源,但其ji构及制造工艺因素使其隔离性并不理想。实际上,由于分布参数特别是分布电容的存在,jue对隔离是不可能的。

SE23400075 / MV502A4C1A

Siemens MS31 6DD1610-0AF1

32/2 2754985

CT 24 IO GT-T / 27 19 47 0

Siemens 6ES5 393-0UA12

ASYS / CAN / P100 V1.31 

PG 090.208.D

E84AVBDE3714SX0 

601/07/230/F/00/GR

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810-0016-3-G-C-N-Y02-M-000

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Type: 2102 IBC V001

Siemens 9AL2137-1BA00-1AA0

FR-S520S-0.75K - EC

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Siemens 6ES5511-5AA12 

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