EPRO MMS6418

主营AB/ABB/GE/施耐德/本特利/ TRICONEX 巴赫曼/西屋/黑马 福克斯波罗 霍尼韦尔 等PLC 模块卡件 可以根据用户需求，提供选型配置、电气控制柜设计.工程设计、系统成套、软件编程、现场调试。

便可以得出MC与PLC具有以下几点区别：

（1）PLC抗干扰性能为MC高

（2）PLC比MC编程简单

（3）PLC设计调试周期短

（4）PLC的I/0响应速度慢，有较大的滞后现象（MS），而MC的响应速度快（US）。

（5）PLC易于操作，人员培训时间短；而MC则较难人员培训时间长；

（6）PLC易于维修，MC则较困难

随着PLC技术的发展，其功能越来越强；同时MC也逐渐提高和改进两者之间将相互渗透，使PLC与MC的差距越来越小，但在今后很长一段时间内，两者将继续共存。在一个控制系统中，PLC将集中于功能于功能控制上，而MC将集中于信息处理上。

 空间的辐射电磁场（EMI）主要是由电力网络、电气设备的暂态过程、雷电、无线电广播、电视、雷达、高频感应加热设备等产生的，通常称为辐射干扰，其分布极为复杂。若PLC系统置于所射频场内，就回收到辐射干扰，其影响主要通过两条路径：一是直接对PLC内部的辐射，由电路感应产生干扰；而是对PLC通信内网络的辐射，由通信线路的感应引入干扰。辐射干扰与现场设备布置及设备所产生的电磁场大小，特别是频率有关，一般通过设置屏蔽电缆和PLC局部屏蔽及高压泄放元件进行保护。

BAUMER BAV 0G.24K360/403610 

FESTO VPPM-6L-L-1-G18-0L6H-V1P 

SAVIO 14064-0620-0 

SAVIO 14064-1090-1 F0D0

MITSUBISHI QD75D2N 

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SICK WL36-R63