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主营AB/ABB/GE/施耐德/本特利/ TRICONEX 巴赫曼/西屋/黑马 福克斯波罗 霍尼韦尔 等PLC 模块卡件 可以根据用户需求,提供选型配置、电气控制柜设计.工程设计、系统成套、软件编程、现场调试。
便可以得出MC与PLC具有以下几点区别:
(1)PLC抗干扰性能为MC高
(2)PLC比MC编程简单
(3)PLC设计调试周期短
(4)PLC的I/0响应速度慢,有较大的滞后现象(MS),而MC的响应速度快(US)。
(5)PLC易于操作,人员培训时间短;而MC则较难人员培训时间长;
(6)PLC易于维修,MC则较困难
随着PLC技术的发展,其功能越来越强;同时MC也逐渐提高和改进两者之间将相互渗透,使PLC与MC的差距越来越小,但在今后很长一段时间内,两者将继续共存。在一个控制系统中,PLC将集中于功能于功能控制上,而MC将集中于信息处理上。
空间的辐射电磁场(EMI)主要是由电力网络、电气设备的暂态过程、雷电、无线电广播、电视、雷达、高频感应加热设备等产生的,通常称为辐射干扰,其分布极为复杂。若PLC系统置于所射频场内,就回收到辐射干扰,其影响主要通过两条路径:一是直接对PLC内部的辐射,由电路感应产生干扰;而是对PLC通信内网络的辐射,由通信线路的感应引入干扰。辐射干扰与现场设备布置及设备所产生的电磁场大小,特别是频率有关,一般通过设置屏蔽电缆和PLC局部屏蔽及高压泄放元件进行保护。
BAUMER BAV 0G.24K360/403610
FESTO VPPM-6L-L-1-G18-0L6H-V1P
SAVIO 14064-0620-0
SAVIO 14064-1090-1 F0D0
MITSUBISHI QD75D2N
TELEMECANIQUE TSX PREMIUM TSX MBP100
APEX DYNAMICS GEARHEAD AE050 010:1
SICK WL36-R63